熱敏PS版的六大技術剖析
熱敏PS版的感光范圍830nm～1064nm，甚至更寬。其印版技術包括熔化、燒蝕、轉移、交聯、光電子分解等。它和熱敏CTP版的技術是有區別的。
1、化學不溶性
通過激光熱，使活性層中的聚合物交聯，產生化學不溶性，形成負像，經過IR曝光受熱產生酸，催化聚合物粘合劑進行化學交聯，使曝光區有選擇性的進行交聯。
2、物理不溶性
該技術是通過活性層受熱產生物理不溶性物質。
3、化學溶解型
這種技術是通過活性層受熱，產生化學溶解物質，無需加熱，獲得陽圖版，完全明室化。
4、感熱紫外光掩膜
該技術感可見光，用IR-射線進行成像曝光，使紫外線吸收層不再溶于堿性顯影液，從而擔當了下層的紫外光掩膜。另一種形式是通過感紅外的紫外吸收層，經熱蝕曝光，對底層的紫外感光層曝光成像。
5、感熱的物理掩膜
它是通過高能激光對物理的掩膜層加熱使其結構發生改變，該保護層中的炭或IR染料吸收IR光后，紅外光能轉化為熱，熱能使活性層中的溫度急劇升高，達到400℃或更高，從而完成曝光。
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